潔凈技術(shù)又稱為生產(chǎn)環(huán)境和污染控制技術(shù)，是近些年隨著高新技術(shù)發(fā)展起來的一門綜合性的新興科學(xué)技術(shù)。潔凈技術(shù)通常包括：空氣凈化技術(shù)、空調(diào)技術(shù)、水純化技術(shù)、氣體純化技術(shù)、微量雜志控制技術(shù)、潔凈環(huán)境的檢測(cè)技術(shù)及相關(guān)的環(huán)境的控制技術(shù)。凈化工程技術(shù)在電子、核子、航空航天、生物工程、制藥、精密機(jī)械、化工、食品、汽車制造等高科技工業(yè)領(lǐng)域及現(xiàn)代科學(xué)領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用。

隨著我國科技水平的提高，人民生活水平也大大提升。人們對(duì)生活質(zhì)量及生活環(huán)境抱有越來越高的要求，如：空調(diào)凈化系統(tǒng)設(shè)備、水凈化設(shè)備、空氣凈化器等凈化工程技術(shù)已經(jīng)開始步入千家萬戶，進(jìn)入人們的現(xiàn)代生活。特別在電子行業(yè)發(fā)展中更能體現(xiàn)出科技水平的提升速度，電子逐漸微型化，質(zhì)量化，完美化給我們帶來了快捷，方便，耐用的時(shí)代。凈化工程技術(shù)在某種意義上已經(jīng)成為衡量國家和工業(yè)的一個(gè)重要標(biāo)志。

1、發(fā)展

在過去我國的潔凈技術(shù)和設(shè)備與國外先進(jìn)國家相比差距是明顯的，我國1965年才開始生產(chǎn)的HEPA過濾器，比國外了十五年。1975年開始生產(chǎn)的光散射塵埃粒子計(jì)數(shù)器比國外晚了二十年。0.1微米潔凈技術(shù)和設(shè)備在國際上先進(jìn)國家已成為成熟技術(shù)，我國則剛剛起步。

在潔凈室建設(shè)規(guī)模和技術(shù)水平上，我國與先進(jìn)國家差距更大。日本清水建設(shè)公司一家，1982年到1987年期間承建的潔凈室面積達(dá)71.8萬平方米，而我國目前一年承建的潔凈室總面積還不到10萬平方米，但八五期間有較大發(fā)展，1993年承建潔凈室總面積已接近15萬平方米。美國的潔凈室建設(shè)規(guī)模更大，1998年統(tǒng)計(jì)已達(dá)188.5萬平方米。

在潔凈工程技術(shù)水平上，80年代末期，國外已大量建成0.1微米級(jí)的超凈室，1987年日本三洋新瀉工場(chǎng)建成十級(jí)潔凈廠房3000平方米，NIT原木則建成了四個(gè)1000平方米控制0.1微米塵埃的千級(jí)廠房，換氣次數(shù)高達(dá)300次/分。美國在臺(tái)灣的TSMCS新廠已建成第四代管道式潔凈室總面積達(dá)10000平方米。

我國使用的0.1微米十級(jí)潔凈室主要依賴從國外進(jìn)口。由于高潔凈級(jí)別的潔凈室造價(jià)十分昂貴，0.1微米十級(jí)潔凈室每平方米造價(jià)高達(dá)1萬美元以上。在大規(guī)模集成電路制造裝備的投資中潔凈廠房占有相當(dāng)高的比例，這與集成電路工藝不斷更新，產(chǎn)品更新?lián)Q代周期越來越快的發(fā)展趨勢(shì)不相適應(yīng)，嚴(yán)重制約了大規(guī)模集成電路技術(shù)的發(fā)展。美國ASYST公司、德國MW公司發(fā)展的使用隔離技術(shù)的亞微米生產(chǎn)微環(huán)境系統(tǒng)設(shè)備和技術(shù)在近幾年中得到廣泛采用。該項(xiàng)最新的潔凈技術(shù)在100級(jí)潔凈度的潔凈廠房中，采用工藝設(shè)備局部使用隔離技術(shù)的微環(huán)境，把投資比例壓縮到高級(jí)別的微環(huán)境，消除了操作者與工藝設(shè)備運(yùn)行的二次污染源產(chǎn)生對(duì)集成電路成品率和可靠性的影響作用。

據(jù)中國電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會(huì)統(tǒng)計(jì)，我國主要八家最大的凈化設(shè)備廠的銷售額1990年為8217萬元，還不足1億，1993年達(dá)到14495萬元，占國際市場(chǎng)銷售額的0.34％。但隨著我國高新技術(shù)的迅速發(fā)展和微電子工業(yè)、光纖工業(yè)、液晶顯示工業(yè)及光電器件工業(yè)、生物工程、醫(yī)藥工業(yè)的發(fā)展，我國潛在的巨大的潔凈技術(shù)產(chǎn)品市場(chǎng)，以每年40％~50％的增長(zhǎng)速度在增加。因此在未來，潔凈市場(chǎng)的蛋糕是巨大的。

2、趨勢(shì)

競(jìng)爭(zhēng)方向轉(zhuǎn)變

由價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)轉(zhuǎn)變?yōu)閮r(jià)值競(jìng)爭(zhēng)。隨著電子產(chǎn)品的集成化、密化、微型化、功能化等趨勢(shì)，對(duì)元器件的可靠性要求越來越高，電子信息制造業(yè)對(duì)潔凈室的要求標(biāo)準(zhǔn)也更加嚴(yán)格。微量的臟污或微弱的靜電都有可能造成元器件產(chǎn)品良品率的大幅降低，直接影響公司的效益。目前硬盤磁頭的靜電壓閾值已經(jīng)下降到3V以內(nèi)，部分IC的封裝環(huán)境要求達(dá)到Class10，甚至Class1的水平。電子信息行業(yè)的技術(shù)發(fā)展和高性能要求促使?jié)崈艄こ绦袠I(yè)企業(yè)由價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)轉(zhuǎn)向技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)，只有具備技術(shù)研發(fā)、自主創(chuàng)新能力的企業(yè)才能滿足客戶需求而持續(xù)發(fā)展，才能設(shè)計(jì)和建造符合要求的高端的潔凈室，相關(guān)技術(shù)和服務(wù)能力的提升將成為未來市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的焦點(diǎn)。

節(jié)能化成為潔凈工程重要目標(biāo)

潔凈廠房是我國的耗能大戶之一，據(jù)不完全統(tǒng)計(jì)，潔凈室的能耗是一般寫字樓的10~30倍。我國的8英寸芯片廠，潔凈室單位面積能耗比美國同型工廠高15%。美國耗能1.28 kW/m2~1.63 kW/m2，而中國耗能1.48 kW/m2~1.93 kW/m2（資料來源：中國電子學(xué)會(huì)潔凈分會(huì)）。以上海某知名芯片廠為例，其全年耗電量51%是用于潔凈工程運(yùn)行及相關(guān)的維護(hù)，如果將51%的能耗合理降低，對(duì)企業(yè)來說就意味著利潤(rùn)的增長(zhǎng)。因此，潔凈室下游相關(guān)行業(yè)企業(yè)越來越重視潔凈室的節(jié)能問題。這就要求潔凈工程行業(yè)的設(shè)計(jì)和施工企業(yè)，從客戶需求出發(fā)，從設(shè)計(jì)理念、建造施工、設(shè)備配備及運(yùn)行等各個(gè)方面進(jìn)行節(jié)能設(shè)計(jì)，只有采取全方位的節(jié)能技術(shù)，整個(gè)潔凈工程行業(yè)才能持續(xù)、良性發(fā)展。

高端潔凈技術(shù)方向發(fā)展

空氣分子污染作為IC工廠所關(guān)心的問題于20年前最先由日本人提出，近年來，世界IC技術(shù)發(fā)展迅速，IC芯片日益微型化。AMC對(duì)當(dāng)前的IC生產(chǎn)其潛在的污染比粒子污染要廣泛多，粒子污染控制只需要確定粒徑及個(gè)數(shù)，但對(duì)AMC控制而言，除了受芯片線寬的縮小而變化外，并受工藝、工藝設(shè)備、工藝材料及傳送系統(tǒng)等的影響。更有甚者用于某一工序的各種工藝材料在很多情況下其微量的分子殘余對(duì)下一工序往往可能就是污染物。因此，IC生產(chǎn)過程中的某些加工工序及工序間的材料傳送和存放環(huán)境中，AMC已成為嚴(yán)重影響成品率的重要問題，AMC分子控制技術(shù)成為潔凈工程設(shè)計(jì)與施工建設(shè)的主流趨勢(shì)。